化学的気相成長（CVD）プロセスは、ディスプレイの耐久性を確保し、環境の影響から保護するための薄膜封止などに使用されます。CVDプロセスは、プロセスチャンバー内のガス流量と圧力条件を正確に制御する必要があり、制御された大気条件の下で実行されなければなりません。CVDプロセス用のVAT真空およびガス供給バルブは、このような条件に合わせて特別に設計されています。