半導体などの大型単結晶を得るための結晶成長や引き上げの方法は広く使われていますが、ほとんどの場合、制御された大気条件が必要です。これらの条件を正確に制御し、コンタミネーションフリーのオペレーションを行うことは、生産の品質と経済性にとって非常に重要です。VATは、この分野での標準を確立しています。
結晶成長用のVAT真空バルブは、粒子の活性化と放出を防ぐことに特化した、現場で実証済みのバルブコンセプトで構成されています。コントロールバルブは、特に精密で繊細な制御性を特徴としており、低コンダクタンス値でも信頼性の高いプロセス制御が可能です。また、メンテナンスの必要性を最小限に抑えることで、高い可用性を実現しています。
結晶成長の課題を解決するためのVAT真空バルブソリューションの詳細については、以下の製品からお選びください。
真空防止の標準バルブ
標準的な高サイクル真空隔離用
過酷な環境でも高い信頼性
圧縮空気がない密閉と排気でも妥協のない信頼性
妥協のない柔軟性と信頼性
妥協のない信頼性
高速で正確なダウンストリーム圧力制御
高速で正確に圧力を制御、締切り
極めて低いコンダクタンスで抜群の制御性を実現
高圧・高温ソリューション
真空チャンバー内のガス流を確実に制御