10月 15, 2026
投資家情報
Ad hoc
Highest Quarterly Order Intake and Sales Ever as Strong AI and Technology Driven Semiconductor Demand Continues
Ad hoc announcement pursuant to Art. 53 LR
CVDプロセス用のVAT真空およびガス供給バルブは、非常に精密な制御が可能であるだけでなく、腐食性の高い媒体との接触に対する高い耐性を備えています。これにより、生産品質と稼働率が向上し、全体的な収益性が向上します。
薄膜の封止に関する課題を解決するためのVAT真空バルブのソリューションについては、以下の製品からお選びください。