真空摆阀

摆阀是一种用于溅射、蒸发、CVD 和蚀刻等工业流程的高真空钟摆隔离阀。此类阀门可耐受腐蚀性、严苛及颗粒敏感工况，广泛应用于沉积、蚀刻、镀膜及真空工艺设备，适配半导体生产、显示器制造等场景。

VAT 提供多款真空摆阀，包含 16.2、16.8 系列等高真空 (HV) 钟摆隔离阀。各款阀门在尺寸、流导、压力等级上有所区别，可适配蒸发器、溅射等各类真空流通工况与工艺。16.2 系列采用阀板机构，配单作用气动（常闭）驱动或三位式气动驱动；16.8 系列则采用 VATLOCK 机构。

选用真空钟摆阀时，需考量运行压力范围、阀门规格及具体应用场景，例如阀门是否用于隔离工况。此外，还需关注阀体材质、驱动器类型，以及阀门能否耐受高温、腐蚀性等严苛工况。

摆阀依靠气动压力实现隔离；钟摆控制阀额外配备电机，用以调节阀板位置。摆阀以隔离为主要功能，可精准控制流导，适用于各类真空环境。而压力控制阀则通过改变通径开度，实现流体流量调节。

VAT 真空摆阀结构紧凑、运行顺畅、控制精度高。

产品优势：

• 运行平稳、振动小，颗粒产生量低
• 可靠性高，维护周期长
• 分体式设计，便于就地维护
• 外形窄薄，可直接装配至真空室

产品经过优化，适用于半导体、显示系统等高性能工况及各类严苛使用环境。

钟摆控制阀驱动圆形阀片转动，使其切入或脱离真空室与抽气系统之间的气流通道。阀板绕气流区域外侧的转轴摆动。

阀门位置由驱动器与控制系统管控，系统可接收压力传感器的反馈信号。控制器依据实测压力调整阀板角度，以此调节阀门流导。通过持续调节，实现真空室内稳定的压力控制。

钟摆控制阀用于真空工艺的压力精准调节，尤其适用于对运行条件稳定性要求较高的场景。典型应用：

• 蚀刻、沉积等半导体制造工艺
• 薄膜镀膜及表面处理
• 显示器制造
• 太阳能电池生产
• 研究与实验室真空系统

阀门可稳定维持工艺所需的精确压力，保障工艺效果稳定、品质可靠。

钟摆控制阀在真空应用场景中具备多项优势：

• 即便处于低压工况，仍可实现高精度压力控制
• 应对动态工艺条件时，响应时间短
• 在精密制造过程中运行稳定、工况可复现
• 颗粒产生量低，满足无尘环境使用要求
• 控制范围广，适配各类真空区间

这些特性使阀门适用于压力稳定性直接影响产品品质的工艺。

钟摆控制阀通过调节真空室与抽气系统之间的流导，实现真空压力管控。

阀片进一步切入气流通道时，流导下降、抽速减小，腔室压力随之升高。阀门开度增大时，流导提升，泵体抽气效率提高，腔室压力随之降低。

控制系统实时监测腔室压力，并同步调整阀门位置，稳定维持目标压力设定值。

主要区别在于其设计与性能特征：

• 钟摆控制阀的阀板摆动切入气流通道，对气流扰动极小，可实现高精度压力调节。
• 蝶阀的阀盘直接处于气流内，易产生较大湍流，控制精度普遍偏低。

因此，在对高精度、低颗粒产生量要求较高的应用场景（如干蚀刻、干清洗）中，优先选用钟摆阀；在沉积工艺及常规真空控制作业中，则多选用蝶阀。