
9月 10, 2025
活动新闻
SEMICON Taiwan 2025
期待 9 月 10 日至 12 日在台北南港展览馆,TaiNEX1,1 号展厅 4 楼,M0942 展位与您见面。
PVD溅射为高分辨率显示器生产更快、更小的晶体管,需要在大面积的基片上实现高沉积均匀性。在这个过程中,真空条件的控制是至关重要的。VAT真空阀解决方案提供了高度精确的控制能力,即使是在非常低的电导率水平和可靠的高频隔离,同时最大限度地避免了粒子激活。
要了解更多关于VAT真空阀解决方案如何解决溅射应用的挑战,请从下面列出的产品中选择。