10 月 7 日 至 9 日,我们在亚利桑那州凤凰城凤凰会议中心 6451 号展位恭候您的光临。
期待 9 月 10 日至 12 日在台北南港展览馆,TaiNEX1,1 号展厅 4 楼,M0942 展位与您见面。
期待 9 月 4 日至 6 日在中国无锡太湖国际博览中心 A6 号馆 468 展位与您见面。
期待 9 月 2 日至 4 日在新德里 Yashobhoomi 印度国际会议中心 (IICC) 1 号馆 1472 展位与您见面。
通常情况下,干式蚀刻通过离子轰击(通常是活性气体的等离子体)来移除和蚀刻半导体材料的遮蔽图案,从而将材料从暴露的表面移开。这个过程可能导致冷凝和高度的副作用,这可能影响真空阀的功能和可靠性。
用干式蚀刻工艺批量制造多层叠片需要最佳的密封技术(具有自清洁功能)和整体可靠的工具设计,才能得以实现高正常运行时间。VAT真空阀解决方案提供了创新的功能,以确保提高工艺安全和增强工具的正常运行时间。
要了解更多关于VAT真空阀解决方案如何帮助解决干式蚀刻工艺问题,请从下面列出的产品中选择。
为显示器生产系统带来高性能
为显示器生产系统(大气压型)带来高性能
为显示器和光伏生产系统带来卓越性能
用于大真空流量和苛刻条件的紧凑设计
出色的可靠性
避免湍流或压力脉冲,大流导谱 (DN 100-160)
可优化半导体与显示器系统中的下游压力控制和隔离