10 月 7 日 至 9 日,我们在亚利桑那州凤凰城凤凰会议中心 6451 号展位恭候您的光临。
期待 9 月 10 日至 12 日在台北南港展览馆,TaiNEX1,1 号展厅 4 楼,M0942 展位与您见面。
期待 9 月 4 日至 6 日在中国无锡太湖国际博览中心 A6 号馆 468 展位与您见面。
期待 9 月 2 日至 4 日在新德里 Yashobhoomi 印度国际会议中心 (IICC) 1 号馆 1472 展位与您见面。
真空和气体流的高精度控制和隔离在半导体制造中是至关重要的。在上游和下游过程中,所有的阀门功能必须保证在大量的循环中具有精确的重复性。其结果是:在规定的时间间隔内保持精确的体积流量和一致的、可靠的密封。VAT控制和隔离阀在此树立了标准。
用于半导体制造的控制和隔离的VAT真空阀组合总是根据特殊的要求而定制方案。根据不同的要求和应用领域,各个系列的性能参数和使用的阀门技术总是适应每个案例中客户的具体需求。其主要特点包括,可适应的打开和关闭周期,稳定的自适应密封,先进的控制器技术,可实现高精度的控制,防止颗粒的激活和释放,以及高制造质量,保证所制造的每个阀门都有确定的、稳定的性能参数。
要了解更多关于VAT真空阀解决方案如何解决控制和隔离方面的挑战,请从下面列出的系列中选择。
超高真空隔离的标准
真空隔离标准
出色的可靠性
快速且精准的下游压力控制
快速且精准的下游压力控制和隔离
卓越的可控性低电导
高压高温解决方案
适用于高循环真空控制和隔离
适用于标准真空控制和隔离
可优化半导体与显示器系统中的下游压力控制和隔离
高过程压力、低流量腐蚀性蚀刻应用的理想之选
流量优化压力控制
体积小巧,性能出众